路透社18日报道，美光计划在日本政府的支持下，未来数年内将投资5000亿日元（约合37亿美元），在其日本工厂引入极紫外光（EUV）微影技术，用于 1-gamma 芯片制程。

报道指出，美光引进的最新EUV设备可制造最先进的DRAM制程 1-gamma 。美光将成为首家将 EUV 技术带入日本的半导体企业，预估2025年起投入日本和中国台湾 1-gamma 节点的生产。

2022年，美光在日本广岛的工厂开始大规模生产新型高容量、低功耗的 1-beta 动态随机存取内存芯片。

彭博社18日引述知情人士消息，美光准备从日本政府获得约2000亿日元（约合15亿美元）的财政补贴，以帮助其在日本生产下一代存储芯片。这笔资金或在日本首相岸田文雄周四会见包括美光首席执行官在内的“芯片高管代表团”时宣布。