【导读】2025年，国内半导体材料领域传来重要消息——专注于精密光学与半导体材料研发的中科卓尔，近期完成数亿元B轮融资。这笔资金将主要用于石英掩模基板的工艺研发、国产化产线建设及量产瓶颈突破。作为中科院光电所杨伟博导领衔组建的企业，中科卓尔自2018年成立以来，始终聚焦半导体掩模版基板的核心技术攻关，此次融资不仅是对其技术实力的认可，更标志着我国在掩模版基板这一半导体关键材料领域的自主可控进程迈出重要一步。
一、技术突破：三项核心能力填补国内空白
掩模版基板是半导体光刻工艺的“基石”，其表面粗糙度、膜层均匀性及缺陷检测能力直接影响光刻精度。中科卓尔通过多年研发，在三项关键技术上实现突破：
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超精密抛光工艺：达到0.2纳米表面粗糙度，优于国际主流水平（通常为0.3~0.5纳米），解决了掩模版基板表面质量差的问题；
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磁控溅射镀膜设备：实现±2%的膜层均匀性，超过国际标准（±3%），确保了掩模版的光学性能稳定；
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缺陷检测系统：可识别0.3微米级别的瑕疵，并关联生产数据，为后续工艺优化提供支撑，填补了国内高精度缺陷检测的空白。
这些技术成果使得国产空白掩模版在130~500nm制程上实现了与国际的技术对标，为更先进的28~90nm制程研发奠定了基础。
二、业务布局：从研发到商业化的稳步推进
中科卓尔的产品涵盖130~250nm制程的半导体/显示用空白掩模版，同时正积极研发28~90nm制程的产品。目前，其空白掩模版已通过路维光电、龙图光罩及国内多家自研光刻机企业的验证，成都中试线也完成了工艺与产品验证，具备了小批量生产能力。此次融资将推动其从“研发型”向“生产型”转型，加速国产化产线建设，解决量产瓶颈。
三、行业意义：解决半导体供应链“卡脖子”问题
当前，中国大陆仅有少数几家企业能小批量稳定供应第三方石英空白掩模版，且关键制程设备仍依赖进口。中科卓尔的技术突破与产能扩张，将改变这一现状，为国内半导体企业提供高质量的掩模版基板，减少对进口的依赖。其在超精密抛光、磁控溅射镀膜等领域的技术积累，也为我国在更先进制程的掩模版技术上抢占先机，助力半导体供应链自主可控。
结语
中科卓尔此次数亿元B轮融资，为其技术研发与产能扩张注入了强劲动力。作为中科院光电所旗下的企业，其在掩模版基板领域的技术突破，不仅填补了国内空白，更解决了半导体供应链的“卡脖子”问题。随着国产化产线的建成与量产，中科卓尔有望成为国内掩模版基板领域的领军企业，推动我国半导体产业向更高制程、更自主可控的方向发展。
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