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延续摩尔定律… 台积电晶圆级封装升级

发布时间:2020-04-27 责任编辑:lina

【导读】晶圆代工龙头台积电针对先进封装打造的晶圆级系统整合技术(WLSI)平台,透过导线互连间距密度和系统尺寸上持续升级,发展出创新的晶圆级封装技术系统整合晶片(TSMC-SoIC),除了延续及整合现有整合型扇出(InFO)及基板上晶圆上晶片封装(CoWoS)技术,提供延续摩尔定律机会,并且在系统单晶片(SoC)效能上取得显著的突破。
 
晶圆代工龙头台积电针对先进封装打造的晶圆级系统整合技术(WLSI)平台,透过导线互连间距密度和系统尺寸上持续升级,发展出创新的晶圆级封装技术系统整合晶片(TSMC-SoIC),除了延续及整合现有整合型扇出(InFO)及基板上晶圆上晶片封装(CoWoS)技术,提供延续摩尔定律机会,并且在系统单晶片(SoC)效能上取得显著的突破。
 
延续摩尔定律… 台积电晶圆级封装升级
 
台积电说明,因为拥有最先进製程的晶圆或晶片,以及混合匹配的前段3D和后段3D系统整合,客户可以利用台积电独特的从晶圆到封装的整合式服务,来打造具差异化的产品。
 
台积电打造以3D IC为架构的TSMC-SoIC先进晶圆级封装技术,能将多个小晶片(Chiplet)整合成一个面积更小与轮廓更薄的SoC,透过此项技术,7奈米、5奈米、甚至3奈米的先进SoC能够与多阶层、多功能晶片整合,可实现高速、高频宽、低功耗、高间距密度、最小占用空间的异质3D IC产品。
 
有别于传统的封装技术,TSMC-SoIC是以关键的铜到铜接合结构,搭配直通硅晶穿孔(TSV)以实现最先进的3D IC技术。目前台积电已完成TSMC-SoIC製程认证,开发出微米级接合间距(bonding pitch)製程,并获得极高的电性良率与可靠度数据,展现了台积电已准备就绪,具备为任何潜在客户用TSMC-SoIC生产的能力。台积电强调,TSMC-SoIC技术不仅提供延续摩尔定律的机会,并且在SoC效能上取得显著的突破。
 
台积电持续加强硅中介层(Si Interposer)与CoWoS布局,以因应人工智慧及高效能运算市场快速成长。台积电第四代CoWoS技术已可容纳单个全光罩(full-reticle)尺寸的SoC和多达6个3D高频宽记忆体(HBM)堆叠,第五代CoWoS与博通等客户合作推出2倍光罩尺寸,并将小晶片、SoIC、HBM3等新晶片结构整合。
 
台积电已完成第五代InFO_PoP(整合型扇出层叠封装)及第二代InFO_oS(整合型扇出暨基板封装)技术并通过认证,支援行动应用和HPC应用。台积电亦开发出新世代整合式被动元件技术(IPD),提供高密度电容器和低有效串联电感(ESL)以增强电性,并已通过InFO_PoP认证。AI与5G行动应用将受惠于强化的InFO_PoP技术,新世代IPD预计于今年开始进入大量生产。
 
 
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