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华大九天捅破EDA天花板!国产存储芯片全流程工具链首破量产封锁

发布时间:2025-08-18 来源: 责任编辑:zoe

【导读】当全球存储芯片市场规模冲向2043亿美元,当长江存储192层NAND卡在物理验证环节——华大九天祭出中国首套存储全流程EDA系统,一举捅破美系三巨头(Synopsys/Cadence/Siemens)的十年技术围城。这套覆盖设计-验证-量产的"中国方案",将十亿级晶体管阵列仿真效率提升300%,成为长鑫/长存等大厂突围美制裁的"EDA核武"。


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一、存储芯片:数字时代的石油,EDA却是中国最大断点

  • 市场规模:2025年全球存储芯片占比半导体市场30%(2043亿美元),NAND/DRAM年增速超28%

  • 技术困局:美系EDA垄断98%市场份额,3D堆叠超200层设计遭遇工具链封锁

  • 国产破冰:华大九天十年研发投入47亿,2024年攻克存储EDA三大致命短板:
    ▶ 海量阵列拓扑优化(支持千亿晶体管级设计)
    ▶ 纳米级信号完整性分析(误码率<10^-18)
    ▶ 多物理场耦合仿真(功耗预测精度±3%)


二、技术核爆:全流程工具链如何撕开量产裂缝

设计层:

  • 独创"AI驱动阵列生成器",10小时完成512Gb NAND架构设计(国际工具需72小时)

  • 支持3D堆叠至256层,金属互联优化算法降低电阻22%

验证层:

  • 分布式仿真引擎将百亿晶体管验证周期从45天压至15天

  • 电磁-热力耦合分析精度达5nm,漏电误报率下降90%

量产层:

  • 可制造性设计(DFM)模块预判工艺缺陷点,良率提升8.5%

  • 与中芯国际/长鑫工艺库深度耦合,流片成功率首超92%


三、国产替代风暴:长存192层NAND的"EDA中国盾"

  • 长江存储实战:

    • 192层Xtacking架构设计周期缩短40%

    • 物理验证发现美系工具未检出的串扰风险,规避10亿元潜在损失

  • 长鑫DRAM突围:

    • 19nm DDR5设计一次流片成功,功耗较竞品低15%

    • 美光专利壁垒规避方案生成效率提升5倍


四、生态突围:从工具到标准的"中国方案"重构

  • 硬联盟:与中芯/华虹/粤芯共建国产PDK联盟,工艺适配周期从18月缩至6月

  • 软定义:牵头制定《存储EDA数据接口规范》,寒武纪/地平线等IP厂商全面接入

  • 云平台:九天云EDA支持多项目并行,中小设计公司成本降低60%


结语:EDA珠峰插上中国旗

华大九天存储全流程EDA的突围,标志着中国半导体产业首次在基础工具链实现"攻防逆转"。当这套系统托起长江存储232层NAND量产,当全球15%的存储芯片开始流淌"中国EDA基因",这场战役已不仅是技术替代——更是重构全球半导体权力秩序的起点。未来五年,中国存储芯片的"工具自由",将成为数字世界的战略底牌。



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