【导读】TechInsights 1月27日发布报告称，在包括EUV在内的下一代光刻技术方面，台积电拥有的专利数量远超三星电子。EUV光刻专利方面，涉及的四家主要公司的专利数量共1114项。其中，卡尔蔡司（353项）和ASML（345项）占据了相当大的比例。
TechInsights 1月27日发布报告称，在包括EUV在内的下一代光刻技术方面，台积电拥有的专利数量远超三星电子。EUV光刻专利方面，涉及的四家主要公司的专利数量共1114项。其中，卡尔蔡司（353项）和ASML（345项）占据了相当大的比例。台积电在晶圆代工界排名第一，拥有279项专利；三星电子为137项，是台积电的一半。
图源：TechInsights
NIL（纳米压印）和 DSA（引导自组装）等替代技术方面，佳能拥有的NIL光刻技术专利数量为913件，台积电拥有145项，三星电子为70项专利；但在DSA光刻专利方面，三星电子拥有68项专利，领先于台积电的24项专利。
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