普发真空推出全新 OmniControl® 通用控制器
•适配普发真空多种真空组件，一台控制器即可对相关设备进行全面控制
•可进行个性化配置，使用方式灵活
•自由定义界面选项，操作简便直观
2021年 10月11日，上海——近日，普发真空推出OmniControl® 通用控制器，适配普发真空多种真空组件，无需购置额外设备即可轻松直观地实现对真空系统的全面个性化控制。
OmniControl® 通用控制器将总压力控制和泵控制结合，以轻松完成普发真空产品之间的数据交换和处理。它不仅适用于支持普发真空 RS-485 协议的产品，包括HiPace、HiScroll、HiLobe、MVP 和 DigiLine系列泵等，还可以选配连接普发真空ActiveLine系列模拟输出真空计。
根据不同需求， 用户可以进行个性化配置。例如，OmniControl® 基础版可选择带或不带内部电源，无电源设备可作为台式（台式设备还可选配桌面支架）或用于手动操作的移动设备，因此，该控制器既可以在本地使用，也可以在其他地点灵活使用。
此外，该控制器带有3.5 英寸的触摸显示屏，用户界面直观，不但可以同时显示总压力和泵的参数，包括转速、电流消耗等，还可以添加设备开关按钮，使用户能够轻松方便地控制真空系统。带有输入和输出接口的控制器，无需配备单独的测量管控制器即可实现全面的系统控制。各种输入和输出端可用于连接外部部件，例如，阀门可以根据压力进行开关。不仅如此，通过界面上的数据选项，还可以将测量值以 CSV 文件格式保存在 U 盘或 MicroSD 卡上，不仅能对数据进行分析和存档，还可以自由定义要保存的数据对象，比如总压力、转速、错误代码等。
总体而言，OmniControl® 通用控制器灵活适配普发真空各种设备及组件，个性化配置及可定义控制界面能够满足用户的具体需求，为用户带来更好的使用体验。
图片说明： 普发真空OmniControl®
关于普发真空
普发真空（Stock Exchange Symbol PFV, ISIN DE0006916604）作为全球领先的真空技术解决方案的供应商之一，不仅拥有全系列的混合轴承及全磁悬浮涡轮分子泵，同时还拥有各种旋片泵，干泵，罗茨泵，多级罗茨泵，氦质谱检漏仪，真空计，质谱仪等产品以及真空管件和系统解决方案。从普发真空发明涡轮分子泵至今，我们在全球分析仪器、研发、真空镀膜、太阳能和半导体领域，始终代表着创新的解决方案和高品质的产品。公司自1890年创立至今百余年始终走在世界前沿， 现有将近3300名员工，20多家分公司遍布全球，同时在全球有10家生产制造基地。
免责声明：本文为转载文章，转载此文目的在于传递更多信息，版权归原作者所有。本文所用视频、图片、文字如涉及作品版权问题，请电话或者邮箱联系小编进行侵删。
推荐阅读：
意法半导体推出STM32生态系统加快基于STM32U5 极低功耗微控制器的开发
