Advanced Energy 的等离子工艺设备电源系统适用于半导体蚀刻、介电质蚀刻、沉积、溅镀、离子植入等半导体和等离子薄膜工艺设备，Paramount HP 10013 沿用这种在市场一直居领导地位的等离子工艺电源技术，但性能则有进一步的提升，例如：Paramount HP 10013 可确保 Paramount 13.56MHz 平台提供高达10kW的输出功率，优点是能以较低的平均功率提供高能脉冲，以确保脉冲功率的准确性和可重复性。较高的功率可提升等离子密度和离子能量，以便支持更快更深的等离子蚀刻工艺步骤以及缩短沉积工艺时间，以满足先进的高深宽比蚀刻工艺和新一代应用的要求。

 

Advanced Energy 半导体及计算产品高级副总裁 Peter Gillespie 表示：「目前市场上的许多产品，包括消费产品，娱乐设备、工业制品、计算系统以及运输工具，几乎全部都要采用集成电路。按照这个发展趋势看，高精度工艺设备电源系统的应用将会越来越广泛。我们的产业必须满足这些不断增加的需求，克服各式各样的挑战。Advanced Energy 的Paramount产品系列率先采用脉冲射频技术，是业内首系列可批量生产的全数字射频电源系统。Advanced Energy 今次推出更高功率的产品，让我们的客户可以利用创新的技术开发更为复杂的三维度系统架构和全新的物料。」

 

Paramount平台的数字架构可支持精确的电源管理，而且无需更换硬件便可更快将新的功能集成一起。全数字控制功能可以追踪等离子变化作出动态及实时的检测，而且可以提供大功率的输出，并确保性能的可重复性。内置的数字接口可确保平台与其他射频电源同步操作，也可无缝连接 Advanced Energy 一系列领先同业的 Navigator 和 Navigator II 数字匹配网络。Paramount系列平台是目前半导体业最受欢迎的等离子工艺设备电源解决方案。