这一年来半导体行业产能紧张,芯片涨价,上游的晶圆厂也不得不提升产能,光刻机是最关键的生产设备之一。ASML的EUV光刻机售价10亿不愁卖,且市场上还有大量二手设备因缺货而涨价。
据报道,佳能在1995年推出的光刻机FPA3000i4,2014年售价不过10万美元一台,现在却要170万美元,涨价17倍之多。从官网查询来看,佳能的FPA3000i4光刻机适用于4到8英寸的晶圆,光刻机分辨率不过0.35um而已,也就是350nm。
但当前的半导体市场上缺货的芯片并不都是先进工艺,成熟工艺也占了一半多,而且这些芯片往往不需要先进的设备,二手设备更便宜。此外,半导体设备企业的产能现在也很紧张,所以订购最新的设备往往需要很长的交付期,至少半年以上才能拿到,很多晶圆厂需要尽快提高产能,等不及新设备。
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