【导读】电子材料咨询公司TECHCET的数据预测，2021年光刻胶市场收入将增长6%以上，达到19.8亿美元，2025年将扩大至23.7亿美元。芯片供不应求的现状将继续推动光刻胶材料市场增长。
电子材料咨询公司TECHCET的数据预测，2021年光刻胶市场收入将增长6%以上，达到19.8亿美元，2025年将扩大至23.7亿美元。芯片供不应求的现状将继续推动光刻胶材料市场增长。
其中，受5nm以下先进逻辑制程和DRAM制造需求推动，EUV光刻胶营收今年将剧增90%达到5100万美元，产量与去年相比几乎翻番，从18kL增加至35kL，2020年~2025年营收复合年增长率达到53%。
图片来源：TECHCET
KrF光刻胶市场则受3D NAND需求推动，今年营收和产量将增长约12%；I-line和G-line光刻胶今年也将增长2~3%。
随着未来3~5年3D NAND和逻辑芯片制造的快速扩张，光刻胶稀释剂和EBR的需求也将快速增长，这些材料都高度依赖丙二醇甲醚乙酸酯 (PGMEA)溶剂。
TECHCET指出多个前沿工艺的技术进展推动着光刻胶快速增长，包括：
EUV光刻机正越来越多地用于台积电和三星的逻辑晶圆厂大规模量产，英特尔预计将于今年开始使用EUV制造芯片，三星还计划将EUV用于D1z工艺的DRAM量产，这些因素推动了EUV配套材料和光刻胶的的产量增长。
3D NAND器件的销量增长和堆叠层数增加，带来了更多的光刻工艺曝光需求，推动了KrF光刻胶的用量。
此外，定向自组装 (DSA)取得重要进展，预示着未来可应用于大批量芯片制造。佳能的纳米压印技术也在缺陷率和对准精度等性能上也获得改善，并且正在用于3D NAND生产的良率测试。
目前，全球半导体光刻胶市场主要被日本企业高度垄断，并且越高端的市场垄断地位越明显。龙头厂商包括TOK（东京应化）、信越化学、JSR（日本合成橡胶）、住友化学、富士胶片等日企和美国陶氏化学，这些企业总计占据各半导体光刻胶细分领域超过85%市场份额，其中头部日企在各个细分领域都占据主导地位。
最先进的EUV光刻胶领域则完全被日企所主导，日本的JSR、TOK、信越化学成为EUV光刻胶市场上仅有的实现量产的厂商。国内从事高端光刻胶研发和生产的公司主要有南大光电、上海新阳、晶瑞股份、北京科华等，但光刻胶目前仍不是这些公司的营收支柱。
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