【导读】CINNO Research 产业资讯，由于 2019 年半导体市场的低迷，光刻胶市场也呈现了负增长；虽然 2020 年有新冠肺炎的影响，但预计会再次增长。
CINNO Research 产业资讯，由于 2019 年半导体市场的低迷，光刻胶市场也呈现了负增长；虽然 2020 年有新冠肺炎的影响，但预计会再次增长。
根据日媒 News.Mynavi 报道，据美国电子材料市场调查公司 TECHCET 调查显示，受到半导体市场低迷的影响，2019 光刻胶、辅助材料的全球市场出现了负增长；2020 年虽然有新冠肺炎的影响，但预测会转为正增长。
据预测，主要的 G-Line/I-Line、DUV 光刻胶的 2020 年的市场规模继 2018 年之后，会再次超过 16 亿美元（约人民币 112 亿元）。另一方面，EUV 光刻胶的市场规模在 2020 年超过 1,000 万美元（约人民币 7,000 万元），到 2023 年年平均增长率预计达到 50%以上，但是从当前的 EUV 光蚀刻胶的整体市场来看，EUV 光刻胶的占比不足 1%。
TECHCET 的分析师 Ed Korczynski 先生表示说，“长年以来，极紫外光刻技术(EUV Lithography)的导入一直被延误，如今终于要被 7nm 工艺以下的 IC 生产采用了。继 TSMC、Samsung Electronics 之后，Intel 计划在 2023 年把 EUV 运用到最尖端的逻辑半导体生产中。SK Hynix 也已经开始讨论把 EUV 运用到尖端 DRAM 的生产中”。未来，随着 EUV 需求的增长，而且有迹象表明 EUV 技术也将被用于量产，EUV 特殊蚀刻胶供应商 Inperia 在 2020 年 2 月份收到了来自光刻胶厂家、使用 EUV 的半导体厂家等的总额 3,100 万美元（约人民币 2.17 亿元）的投资。
据说，荷兰的 EUV 曝光设备公司——ASML 在 2019 年销售了 203 台 DUV Stepper（深紫外光曝光机），26 台 EUV Lithography 设备（极紫外光曝光设备）。ASML 保留 2020 年 30 台 EUV 曝光设备“NXE:3400 系列”的产能，2021 年开始计划每年出货 40-45 台。
按照曝光光源来区分，半导体光刻胶（Photo-resist）市场规模。（单位：百万美元）（图片出自：TECHCET）
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