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韩设备商开发ALD技术，堆叠电晶体

发布时间：2024-07-15 责任编辑：lina

【导读】韩国半导体设备商Jusung Engineering董事长Chul Joo Hwang近日表示，未来半导体将把电晶体堆叠在一起，因为DRAM和逻辑芯片扩展已达极限，要像NAND一样将电晶体堆叠，才能克服问题。

韩国半导体设备商Jusung Engineering董事长Chul Joo Hwang近日表示，未来半导体将把电晶体堆叠在一起，因为DRAM和逻辑芯片扩展已达极限，要像NAND一样将电晶体堆叠，才能克服问题。

Hwang认为，这意味开发更多原子层沉积（atomic layer deposition，简称ALD）技术，以减少先进芯片生产过程中极紫外光（EUV）制程步骤的使用。

原子层沉积技术是可将材料一层层成长的薄膜制程技术，有高度均匀性、精准厚度控制、高阶梯涵盖率等特性，克服传统制程技术所遭遇的困难。

韩媒The Elec报道指出，堆叠电晶体可降低电晶体微缩至更小尺寸的需求，作为佐证，深紫外光（DUV）设备有望用于3D DRAM生产。Hwang认为，随着堆叠变得越来越重要，ALD设备需求也将增加。此外，三五族半导体和IGZO半导体的生产也需要ALD设备。

目前半导体堆叠可说是趋势之一，因此先进封装技术也成为重要的一环。

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