【导读】近日，武汉光谷传来重大科技进展——国内首条基于12寸40nm CMOS工艺线的全国产化硅光流片平台正式投入使用。这一由国家信息光电子创新中心建设运营的平台，集成了完整的PDK、TDK和ADK设计套件，标志着我国在硅光芯片领域实现了从技术突破到产业化服务的关键跨越。
近日，武汉光谷传来重大科技进展——国内首条基于12寸40nm CMOS工艺线的全国产化硅光流片平台正式投入使用。这一由国家信息光电子创新中心建设运营的平台，集成了完整的PDK、TDK和ADK设计套件，标志着我国在硅光芯片领域实现了从技术突破到产业化服务的关键跨越。
七年磨一剑：打造国产硅光技术体系
国家信息光电子创新中心自2018年在光谷揭牌成立以来，一直致力于解决我国信息光电子制造业的关键共性技术难题。经过七年多的深耕积累，该中心已服务支撑300余家单位，完成800多次订单流片，并成功突破了1.6T硅光互连芯片、2T芯粒、145GHz强度调制器等前沿关键技术。
此次投用的12寸硅光芯片开发服务平台，创新构建了硅光MPW服务模式，通过将多个工艺兼容的芯片设计集成于同一晶圆进行流片，实现了成本的有效分摊，大幅降低了研发门槛。这种模式特别适合支持中小科技企业和科研机构的创新活动。
技术指标卓越，达到国际先进水平
据平台披露的技术细节，基于40nm制程的硅光PDK1.0性能总体已达到商用要求，其加工精度、波导损耗、光耦合效率等核心指标均达到国际先进水平。除了基础工艺设计套件外，平台还集成了测试设计套件和封装设计套件，能够为芯片从集成设计到封装验证提供全流程技术支撑。
东湖高新区相关负责人表示，该平台的建设是光谷在硅光领域前瞻布局的重要成果，将有力推动产业从"单点突破"向"集群化、规模化"发展转变，满足科研成果转化和产品研制中的快速迭代需求。
破解产业困局，构建创新生态
硅光芯片流片长期以来面临系统性难题，而MPW服务模式被认为是破解当前国产硅光流片困局最现实、最有效的策略之一。对高校和初创公司而言，MPW将掩膜版及晶圆制造成本分摊给数十个设计项目，使单次流片成本降至原来的十分之一甚至更低。
这种模式不仅支撑了科研与小规模创新的持续开展，还使设计公司能够以更低成本进行多轮设计迭代，快速验证设计理念与IP模块。同时，代工厂也在处理多样化设计的过程中积累宝贵工艺数据，持续反哺工艺的完善与稳定，形成"流片越多、工艺越成熟"的良性循环。
随着这一平台的正式投用，中国硅光芯片产业有望迎来加速发展期，为下一代信息通信技术奠定坚实基础。
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